蚀刻

湿法蚀刻是一种使用液体化学品或蚀刻剂从各种基片上去除材料的去除工艺。活性蚀刻剂与蚀刻材料结构发生作用，材料就会溶解。湿法蚀刻可以应用于金属、玻璃、硅、复合半导体材料等。RENA 为各种基片和工业提供广泛的酸碱蚀刻工具。

太阳能电池生产的蚀刻

太阳能电池的生产过程需要若干工序，例如单面高性能湿法蚀刻工艺，以及高处理需求或低化学消耗等额外任务。

PERC 电池制造中的扩散过程应该在太阳能电池的正面建立“发射极”（正极）。在电池背面，不应有发射层在电池中形成负极。然而，高温扩散过程会影响两侧，导致最后的太阳能电池短路。单面蚀刻工艺可以去除太阳能电池后侧的扩散区，即“边缘隔离”。

RENA 获得专利的单面蚀刻工艺和大量成就与广泛的蚀刻工艺结合，实现蚀刻面和非蚀刻面之间的高度选择性。RENA NIAK 平台提供“经典”酸蚀边缘隔离工艺及 HF/HNO₃ 混合物抛光工艺。通过致力于提升及新电池概念高度变化的需求，RENA 为 PERC 电池概念提供采用 KOH 的高性能抛光工艺，为先进电池概念（例如 Topcon）提供特殊的高精度工艺，例如 Poly-Si 沉积和扩散区的热碱单面刻蚀。

玻璃蚀刻

玻璃具有出色的耐化学性、耐热性、生物相容性、大光跃迁范围以及低光吸收等特性，是适合各种应用的重要材料。此外，还有大量不同类型和成分的玻璃适合于生命科学、光学、半导体和显示屏等特殊应用。

湿法蚀刻工艺通常用于玻璃来打造确定的结构、细化、抛光或纹理化腐蚀。光学、微流体及半导体行业的许多应用都需要确定的结构，这些结构可以在硅加工的微制造过程中创建。

玻璃表面通常以掩蔽层保护，然后在暴露区蚀刻。为了实现此目的，常常使用 HF 或酸的组合。氟酸对玻璃氧化物网络结构的溶解非常有效。RENA 拥有各种玻璃结构构造工具，从小型实验室工具到大规模制造，一应俱全。

某些类型的玻璃由于特殊的成分，需要其他类型的蚀刻化学品。比如，用于显示屏玻璃类型的碱性蚀刻。此工艺可以很好地蚀刻玻璃，但在许多情况下，反应速度非常缓慢，因此在经济上不太吸引人。热蚀刻作为这类工艺的一种解决方案，可以显著提高蚀刻工艺的速度。RENA 提供可实现高达 170°C 热碱性蚀刻工艺的工具。

牙种植体蚀刻

目前，牙体种植是牙科领域替换缺失牙的公认标准程序。牙科植体作为一种外科固定装置，被植入骨头中，在几个月内就与骨头生长融合在一起。事实证明，牙种植体的表面粗糙度会影响骨整合以及种植体与骨头的结合，因此，许多种植体制造商采用特殊的处理来

提升种植体表面的粗糙度。最常用的一种粗糙化方法是酸蚀刻。

RENA 提供专为牙种植体蚀刻、调质、钝化、清洁和阳极氧化等湿法化学工艺设计的生产机器，占地空间小，在模块化工具中融合各种表面处理工序。