在半导体制造中，浸泡式湿式工作台可用于各种表面处理工艺，如蚀刻、清洗和抗蚀剂剥离。RENA为高产量和低产量的半导体批量生产制造多功能湿式平台。我们提供手动、半自动和全自动的浸泡平台，能够处理高达300毫米的晶圆并提供高产量。根据设备的不同，设计和占地面积可以根据客户的要求来定制。
我们的湿式工作台可以应用于前端（FEOL）和后端（BEOL）工艺中的酸和溶剂应用。在关键金属蚀刻、抗蚀剂或金属剥离和硅的KOH蚀刻方面，半自动和全自动平台可与我们的专利工艺槽技术TruEtch、FluidJet和SiEtch相结合，以实现出色的蚀刻均匀性和金属去除。RENA的批量浸渍组合可用于制造广泛类型的半导体技术和设备，如MEMS、CMOS、µLED、RF和功率设备。