RENA EPM 手动电镀系统具备最佳液体流量，可精确控制电场。它实现高沉积均匀度及可扩展的高电镀率，凭借模块化设计和占地面积少可适应各种作业环境。

RENA EPA 系统带来电镀技术自动化。凭借单层与叠层工艺的自动化晶片处理、精确的电场控制和出色液体流量，RENA EPA 系统可实现高沉积均匀度。此外，该系统还具备可扩展的高电镀率及模块化设计。