适合行业领先者的先进工艺解决方案

通过快速确定关键需求，RENA NA 技术销售团队得以斩获数百万美元订单。得益于工艺经验，RENA NA 能提供全方位满足每位客户需求的系统。

一家全球知名的领先制造商正在建造 200 mm 晶片的全新试生产线，要求能够生产大量湿法工艺机床的供应商。RENA NA 设备应用包括湿法刻蚀、金属剥离、光刻胶研发、Marangoni 干燥、IPA 蒸汽干燥和旋转冲洗干燥。快速周转，满足客户的扩展时限。

RENA 还从数字设备制造商获得追加的 1 百万美元以上的订单，用于全新微型/迷你 LED 产品线。RENA NA 在 Au 与 TiW 刻蚀应用的丰富经验凝聚成革命性半自动湿法工作台（配备 TruEtch 罐用于 Au 和 Ti），带来良好的刻蚀均匀性，相比单晶片加工湿法或干燥刻蚀可选方案更为高效（每小时晶片）且花费更少。

RENA NA 工艺应用工程主管 Scott Tice 解释道，“微型/迷你 LED 是如今增长最快的化合物半导体市场领域之一。制造这些设备需要尽可能以低成本大批量精准刻蚀。这款革命性工作台凭借获得专利的 TruEtch 技术罐，为这一快速增长的市场提供价格公道的出色性能。利用位于俄勒冈州奥尔巴尼的应用实验室，我们已经积累了丰富的开发经验与数据，彰显精准刻蚀 Au 与 Ti 层的 TruEtch 能力。这种双金属组合刻蚀应用是这些设备制造工艺的基本用途。RENA 已做好充分准备，很荣幸能与行业佼佼者合作，竞争微型/迷你 LED 设备的市场主导地位。”