面向高端产品的高端清洁
RENA BatchClean N 自动化处理设备用于硅太阳能电池的批次式清洁工艺。根据客户要求，可提供众多碱性与酸性工艺。该设备基于 RENA Batch N 平台。
特点和优势
- 在批次式工艺中实现全自动湿法化学清洁
- 提供大量清洁解决方案：基于 RCA、酸性、碱性、臭氧等
- 视配置而定，产能高达 8000 片/小时
- 集成冲洗与干燥晶圆
- 借助 Bleed + Feed（分供）功能延长蚀槽寿命
- 箱内箱式设计改善工艺均匀度并降低空间需求
- 同类最佳计量系统，确保精确、稳定的槽液组成
- 使用无压条载片装置
- 破损率业界最低
- 易于维护
- 可提供 BatchClean N400（每个蚀槽 400 片）、N200（每个蚀槽 200 片）或 N50（每个蚀槽 50 片）
选项
- 可适用于薄至 100 µm 的硅片
- MES 接口 (SECS/GEM)
- 用于缓冲载片装置的装卸扩展
- 用于化学品供应的介质柜
- 针对化学品排出/废水的废物泵出站
- 过滤器风扇单元（“通风箱”）
- 工艺控制传感器（例如 pH 值、电导率）
