BatchClean

High-End-Reinigung für High-End-Produkte

Die automatische Verarbeitungsanlage RENA BatchClean N wird zur Reinigung großer Mengen von Silizium-Solarzellen eingesetzt. Je nach Kundenanforderungen sind eine Vielzahl alkalischer oder saurer Prozesse verfügbar. Die Anlage wurde auf Grundlage der RENA Batch N-Plattform entwickelt.

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Funktionen und Vorteile

Vollautomatische, nasschemische Reinigung in einem Massenverarbeitungsprozess
Große Vielzahl verschiedener Reinigungslösungen verfügbar: RCA, sauer, alkalische, ozonbasiert, …
Durchsatz von bis zu 8000 Wafern/Stunde je nach Konfiguration
Integrierte Spülung und Trocknung von Wafern
Lange Lebensdauer des Bades dank Feed-and-Bleed-Funktion
Tank-in-Tank-Design für eine verbesserte Prozesshomogenität und einen reduzierten Platzbedarf
Bestes Dosierungssystem für eine genaue und konstante Zusammensetzung des Bades
Träger ohne Niederhalter
Branchenweit geringste Bruchraten
Einfache Wartung
Verfügbar als BatchClean N400 (400 Wafer pro Bad), N200 (200 Wafer pro Bad) oder N50 (50 Wafer pro Bad)

Optionen

Anpassung für dünne Wafer bis 100 µm
MES-Schnittstelle (SECS/GEM)
Lade- und Entladeerweiterung für Pufferträger
Medienschrank für Chemikalienversorgung
Abpumpstation für die Entfernung der Chemikalien/des Abwassers
Filter-Gebläseeinheiten („Flowboxes“)
Sensoren für die Prozesssteuerung (z. B. pH, Leitfähigkeit)

Solarmachine Batchchlean N400 nasschemische Reinigung

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Downloads

Datasheet BatchClean N600

(1 MB)

Datasheet BatchPolyClean

(1 MB)

Datasheet Hi-Eta Clean

(1 MB)