由 RENA 优化的多晶硅蚀刻和清洗。 BatchPolyClean 显着提高了效率和最佳工艺性能。该系统兼容从 M0 到 G13 的各种晶圆尺寸以及大容量晶圆盒。因此，它的吞吐量显着增加，达到每小时 15,000 片晶圆，同时显着降低总体拥有成本。
RENA BatchPolyClean 为太阳能行业中 TOPCon 电池的多晶硅去除、分流蚀刻和后续高性能清洁设定了新标准。