Von RENA optimiertes Ätzen und Reinigen von Poly-Si. Die BatchPolyClean sorgt für eine deutliche Effizienzsteigerung und optimale Prozessleistung. Dieses System ist mit verschiedenen Wafergrößen von M0 bis G13 sowie Kassetten mit hoher Kapazität kompatibel. Dies führt zu einer deutlichen Steigerung des Durchsatzes auf bis zu 15.000 Wafer pro Stunde und senkt gleichzeitig die Gesamtbetriebskosten deutlich.
RENA BatchPolyClean setzt einen neuen Standard für die Entfernung von Poly-Si, Shunt-Ätzung und anschließende Hochleistungsreinigung für TOPCon-Zellen in der Solarindustrie.