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Maschinen und Prozesse für Lithium-Ionen-Batterien

Moderne Gesellschaften haben einen hohen Energiebedarf. Von allen verfügbaren Energieformen stellt die Elektroenergie die nachhaltigste Wahl dar. Weltweit ist die Photovoltaik bereits ein fester Bestandteil der Stromerzeugung, die E-Mobilität ist immens auf dem Vormarsch und mittlerweile auch in puncto Kosten und Leistung wirtschaftlich tragbar. Geräte des täglichen Bedarfs, wie Laptops und Mobiltelefone, und sogar unsere Häuser sind auf Elektroenergie angewiesen.
Für alle Branchen und Anwendungen ist eine effektive Energiespeicherung entscheidend. Die Nachfrage nach innovativen Batteriekonzepten ist weltweit groß. 
RENA Technologies glaubt fest an erneuerbare Energien und den Wandel von fossilen Brennstoffen zu erneuerbaren Energien. Deshalb geben wir unser Bestes, um zu dieser Entwicklung beizutragen. Als Maschinen- und Prozesshersteller können wir dies am besten durch die Entwicklung innovativer Technologien für innovative Batterien erreichen.

 

Warum RENA Technologies?

Die Batterieproduktion, insbesondere die Herstellung von Anoden, erfordert Nassprozesse. Diese Prozesse sind der Schlüssel für leistungsstarke Lithium-Ionen-Batterielösungsansätze und Batteriekonzepte der nächsten Generation.
Angesichts unserer Erfahrung in der Behandlung von nassen Oberflächen in anderen Sektoren liegt es auf der Hand, dass dies eine perfekte Ergänzung unseres Portfolios darstellt. Wir wissen mit Elektrochemie umzugehen, können Ätzprozesse durchführen sowie einseitige und zweiseitige Behandlungen oder Rolle-zu-Rolle-Anwendungen vornehmen.

Technologische Lösungen

  • Inline-Ätzen von porigem Silizium
  • Rolle-zu-Rolle-Verarbeitung
  • Kontrollierte Atmosphären
  • Elektrobeschichtung/stromlose Beschichtung
  • Ätzen und Strukturierung
    - Silizium, Metalle
    - Chemisch, elektrochemisch
  • Reinigung

 

schwarzes Laufband in einer Maschine
Weiße RENA-Maschine für Lithium-Ionen-Akkus

Mögliche Anwendungen

  • Metallisierung
  • Lithium-Beschichtung
  • Prälithiierung
  • Präkonditionierung/Nachbehandlung
  • Ätzen/Strukturierung (PorSi)
Von Laboranwendung bis Massenproduktion

Die Entwicklung und der Bau von Maschinen ist unsere Leidenschaft. Wir stellen für Solarzellenherstellungs- und Halbleiterfertigungsbranchen erfolgreich Laboranlagen sowie hoch automatisierte Produktionssysteme her.

Lösungen für Großserienproduktionen sind unser Tagesgeschäft

Unsere Ingenieure sind stets bestrebt, effizientere Maschinen zu entwickeln und damit die Durchsatzraten in all unseren Geschäftsfeldern zu erhöhen. Die Bearbeitung von Solarzellen und die entsprechenden Inline-Prozesse kommen den Anforderungen von Batterieanwendungen am nächsten. Dieses Knowhow kommt uns im Bereich Lithium-Ionen-Batterien zugute, da wir bereits seit mehreren Jahrzehnten Inline-Maschinen bauen. Darüber hinaus gehört auch die Rolle-zu-Rolle-Verarbeitung, die ein weiterer Teil der Batterieherstellung ist, zu unserem Angebotsspektrum.

 

Die ideale Verzahnung bestehender Technologie mit neuen Anforderungen erlaubt eine angemessene Kostenstruktur für Batterieanlagen. Wir nutzen unser Expertenwissen und unsere Erfahrung, um die Geräteentwicklung voranzutreiben und Produktionskosten zu senken. In Verbindung mit einer größeren Produktionskapazität stellt dies eine attraktive Lösung für Forschungsinstitute und Batteriehersteller dar.

InPorSi - Inline-Bildung von porigem Silizium

InPorSi ist eine einseitige Inline-Laboranlage, die in der Lage ist, eine porige Siliziumschicht auf der Waferoberfläche zu bilden. Diese Beta-Anlage ist im Forschungszentrum CAU Kiel bereits in Betrieb. Sie ist sowohl für kleine Produktionsmengen als auch für die Single-Wafer-Bearbeitung geeignet. Das Prinzip basiert auf unserer Inline-Produktionsanlage für Solarzellen, wobei es stark an die Anforderungen der PorSi-Bildung angepasst ist. 

Inline-Bildung von porigem Silizium

Eigenschaften

  • Inline transport
  • Einseitige Bearbeitung

 

Vorteile

  • Randausnutzung von Null
  • Keine Versiegelung
  • Einfache Automatisierung
  • Skalierbarer Durchsatz
  • Große und dünne Substrate

Kritische Parameter und typischer Bereich

  • Schichtdicke: 5-30 µm+
  • Wafergröße: 156 x 156 mm
  • Randausnutzung: 0 mm
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Leiter Business Development
Franck Delahaye
+49772393133125
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