Bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen besteht der ständige Bedarf und Wunsch, feinere Merkmale herzustellen. Um dieses Ziel zu erreichen, sind qualitativ hochwertige Ätz- und Reinigungsprozesse unumgänglich. Zu diesem Zweck bietet der Halbleitersektor von RENA die Inception, eine kompakte Plattform für die Bearbeitung einzelner Wafer. Die Inception ist eine halbautomatische, nasschemische Prozessanlage, die Halbleiterherstellern den Übergang von der Forschung und Entwicklung zur Pilotproduktion ermöglicht. Diese Plattform ist die ideale Wahl nicht nur für Forschungs- und Entwicklungszwecke, sondern auch für die Kleinserienproduktion mit fortschrittlicher Rückstandsentfernung und Oberflächenreinigung. Unsere Einzelwafer-Nassstation bietet eine hervorragende Ätzgleichmäßigkeit von <= 1 % innerhalb eines Wafers, von Wafer zu Wafer und von Charge zu Charge. Diese überragende Gleichmäßigkeit kann sogar bei Ätzraten von mehr als 100 Å/sec erreicht werden.
Dank des Mehrfachtankdesigns von Inception und der zwei beweglichen Sprüharme mit getrennten Chemikalienleitungen können die Kunden mehrstufige Prozesse durchführen. Unsere Single-Wafer-Plattform eignet sich für die Verarbeitung von III-V- und II-VI-Verbindungshalbleitern mit Wafergrößen bis zu 200 mm und Masken bis zu 7"× 7". Sie kann sowohl für Säureprozesse im Front-End-of-Line (FEOL) als auch für Lösungsmittelanwendungen im Back-End-of-Line (BEOL) eingesetzt werden.