GW-Scale TopCon Nassprozessierung

Die hochmoderne TOPCon-Technologie entwickelt sich zum neuen Mainstream in der c-Si-Photovoltaik. Die Nachfrage nach höherer Effizienz und ultrahohem Durchsatz erfordert noch ausgefeiltere Fertigungsansätze als je zuvor. Die Prozesse bei RENA werden dieser Herausforderung gerecht: Texturierung mit ultrahohem Durchsatz, einseitiges Ätzen und Cluster-Kantenisolierung im Batch-Verfahren, Poly-Si Ätzen und Oberflächenreinigung sind mit RENA-Maschinen möglich.

Auf einen Blick:
- Hohe Effizienz und ultrahoher Durchsatz bei der Texturierung
- Einseitiges Ätzen und Cluster-Kantenisolierung im Batch-Verfahren
- Poly-Si Ätzen und Oberflächenreinigung
- Bewährte höchste Zellwirkungsgrade η > 24,5%, Voc > 710 mV
- 100% HNO3-frei

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