chemical wet bath

Hi-ETA clean®

提高您的效率

经证实,新型 Hi-ETA clean® 添加剂可在不增加工具占地面积的情况下提高 0.05% 的效率。 该添加剂专为清洁单晶 p 型和 n 型硅片而设计,与新的或现有的内联 PSG/BSG 蚀刻 (InEchSide)、BatchTex N400 或 N600 工具结合使用,可提高您的产量。

特点和优势

  • 使用 HF/HCl 增强金属清洗
  • 将金属清洗槽的使用寿命延长至 600 次运行
  • 经证实,TOPCon 生产线的效率提高了 0.05%
  • 现有生产线轻松升级至新的清洁技术
  • 大工艺窗口
  • 添加剂的使用具有成本效益
  • 环保
Michael Vees Sales Director Solar
Sales Director Solar
Michael Vees