Hi-ETA clean®
提高您的效率
经证实,新型 Hi-ETA clean® 添加剂可在不增加工具占地面积的情况下提高 0.05% 的效率。 该添加剂专为清洁单晶 p 型和 n 型硅片而设计,与新的或现有的内联 PSG/BSG 蚀刻 (InEchSide)、BatchTex N400 或 N600 工具结合使用,可提高您的产量。
经证实,新型 Hi-ETA clean® 添加剂可在不增加工具占地面积的情况下提高 0.05% 的效率。 该添加剂专为清洁单晶 p 型和 n 型硅片而设计,与新的或现有的内联 PSG/BSG 蚀刻 (InEchSide)、BatchTex N400 或 N600 工具结合使用,可提高您的产量。