Das neue Hi-ETA clean®-Additiv mit nachgewiesener Effizienzsteigerung von 0,05 %, ohne die Stellfläche der Maschine zu vergrößern. Das für die Reinigung von monokristallinen p- und n-Typ-Si-Wafern konzipierte Additiv steigert Ihre Produktion in Kombination mit neuen oder vorhandenen Inline-PSG/BSG-Ätztools (InEchSide), BatchTex N400 oder N600.