SEMICON West 2026: RENA bringt neue Möglichkeiten in die Metallisierung

Kompakte Anlagen, patentierte Prozesse und eine neue Galvanikplattform: Auf der SEMICON West 2026 präsentierte RENA Technologies nasschemische Lösungen für FEOL- und BEOL-Anwendungen in Photonik, Hochfrequenztechnik und Leistungselektronik.

Am Stand #2066 standen unsere patentierten Lösungen für Metal Lift-Off und Metal Etch im Fokus. Integriert in die nasschemischen Prozessplattformen von RENA verbinden sie skalierbare Leistung mit geringem Platzbedarf.

Ein weiteres Highlight war die neue vollautomatisierte Galvanikplattform zur Abscheidung von Metallen wie Kupfer, Nickel, Gold, Zinn, Silber, Indium und Platin sowie von Legierungen.

Vielen Dank an alle Besucher für den Austausch über ihre Anwendungen und Produktionsanforderungen. Unser Team freut sich darauf, die Gespräche fortzusetzen und gemeinsam passende Anlagenlösungen zu finden.

Für weitere Informationen zu unseren nasschemischen Prozesslösungen und Galvanikplattformen kontaktieren Sie gerne unser Team.