Final Cleaning System (FCS)
Saubere Wafer sind die Basis für hervorragende Halbleiterprodukte. Das voll automatisierte Endreinigungssystem von RENA bietet höchste Oberflächenqualität für den letzten Wafering-Schritt. Durchdachte Prozesse und eine fortschrittliche Fertigungsplanung machen das System zu einer perfekten Lösung für die Halbleiterwaferproduktion mit hohem Durchsatz und anspruchsvollen Anforderungen.