Im Bereich der Solarwaferproduktion ist die nasschemische Anlage RENA PreWaClean das ideale Werkzeug für die Vorreinigung von geschnittenen Bricks und die Ablösung des Klebers von den Wafern. Der hohe Durchsatz und der geringe Platzbedarf überzeugen und machen die Anlage zur perfekten Lösung.

Die RENA Anlage PreWaClean ist der erste Schritt. Die Wafer werden zusammen mit den Sägebalken nass in die Beladeöffnungen transportiert. Das optimierte Sprühdüsendesign reinigt alle potentiellen Partikel, die während des Sägeschrittes entstehen. Eine präzise Chemikaliendosierung garantiert perfekt gereinigte Wafer. Die Wafer werden vom Sägebalken abgetrennt, eventuelle Klebstoffreste werden gereinigt und in den Entklebungsvorgang, der im nachfolgenden Prozesstank durchgeführt wird, transportiert. Das verbesserte Lochrohrdesign sorgt für einen direkten Fluss zum Klebstoff, was zu einem hervorragenden Durchsatz führt. Das System basiert auf dem "wet-in-wet-out"-System. 

Das perfekte Zusammenspiel ergibt sich aus der nachfolgenden Anlage zur Wafervereinzelung und der direkten Verbindung mit dem abschließenden Reinigungsschritt mit der RENA Anlage BatchWaClean. 

Die RENA Anlage BatchWaClean besteht aus einem alkalischen Reinigungsschritt, einer ozonbasierten organischen Endreinigung und einer Trocknung. Dies garantiert ein perfektes Zusammenspiel der RENA-Nasschemiesysteme und garantiert einzigartige Prozessergebnisse bei besten Betriebskosten.