Die Reinigungsprozesse können von einer milden Reinigung auf Wasserbasis mit Additiven bis hin zur Anwendung aggressiver chemischer Lösungen reichen. Zu den Reinigungslösungen für Verschmutzungen durch Partikel gehören Piranha-Lösungen für große Partikel und organische Verunreinigungen und SC-1-Lösungen für kleine Partikel. Metallische Verunreinigungen können mit einer sauren Reinigung, etwa mit SC-2-Lösung, Piranha-Lösung oder verdünnter Flusssäure (HF), von der Substratoberfläche entfernt werden. RCA-Reinigungsverfahren sind eine Kombination aus SC-1- und SC-2-Reinigung, gefolgt von einer Behandlung mit einer verdünnten HF-Lösung oder BOE (Buffered Oxide Etch, gepufferte Oxidätze).