28. 05. 2025
Innovationen im Fokus: Unser Auftritt bei der CS MANTECH 2025 in New Orleans
Vom 19. bis 22. Mai 2025 nahmen wir an der International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology (CS MANTECH) in New Orleans, Louisiana, teil.
An Stand Nr. 212 präsentierte unser Team mit Stolz unsere fortschrittlichen Nassprozess-Lösungen, die speziell auf die hohen Anforderungen der Verbindungshalbleiterfertigung zugeschnitten sind. Während der Veranstaltung durften wir zahlreiche Besucher begrüßen und führten wertvolle technische Gespräche mit Fachleuten aus der ganzen Welt.
Zu den Highlights unserer Ausstellung gehörten:
- ACE – Advanced Chemical Etching: Eine hochpräzise Ätzlösung, speziell entwickelt für SiC-Wafer, mit exzellenter Prozesskontrolle und Oberflächenqualität.
- Revolution+: Unsere kompakte, vollautomatische Nassprozessanlage zur nahtlosen Integration mehrstufiger chemischer Prozesse – ideal für flexible Kleinserienfertigung.
- TruEtch- & FluidJet-Technologien: Innovative Tanklösungen für eine gleichmäßige Ätzperformance und effiziente Metallschichtentfernung, die zuverlässige und reproduzierbare Ergebnisse ermöglichen.
Wir haben uns sehr über das starke Interesse an unseren Technologien sowie die zahlreichen inspirierenden Gespräche auf der Konferenz gefreut. Das positive Feedback und der technische Austausch haben unser Engagement bestätigt, leistungsstarke und praxisnahe Lösungen zu liefern.
Ein herzliches Dankeschön an alle Besucher und Partner, die die CS MANTECH 2025 für uns zu einem so erfolgreichen Erlebnis gemacht haben – wir freuen uns schon auf ein Wiedersehen bei zukünftigen Veranstaltungen!
